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離心機主機的光學(xué)測量系統的結構及設計

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離心機主機的光學(xué)測量系統的結構及設計
分析超速離心機主要裝備有三種光學(xué)系統,用來(lái)檢測離心過(guò)程中離心池樣品的濃度及其變化。它們是史利倫(Schlieren)光學(xué)系統、瑞利(Rayleigh)干涉光光學(xué)系統和光吸收系統。前兩種方法檢測原理基于溶質(zhì)和介質(zhì)對光線(xiàn)有不同的折射這一性質(zhì),第三種方法是基于分離溶液的消光性質(zhì)。
(a)史利倫光學(xué)系統
  系統由光源、兩個(gè)透鏡、準直鏡、聚焦鏡、一個(gè)光闌和成像屏(照相底片)組成(下圖)。其中光闌可以是一條狹縫或相差片。它用攝影方法記錄由界面產(chǎn)生的光偏析。光闌對準平行壁離心池,從界面出發(fā)的各點(diǎn)光線(xiàn)的位移和相應的折射率梯度成正比。結果在屏上畫(huà)出一條光滑的連續曲線(xiàn)。對于單分散體系來(lái)講,這條微分曲線(xiàn)近似對稱(chēng),峰尖代表界面位置。多組分體系每一個(gè)不同的沉降組分均會(huì )出現一個(gè)峰或肩;(xiàn)和峰之間的面積和溶液濃度成正比。通過(guò)測量和數據處理,能夠對分離樣品的純度進(jìn)行鑒定或測量樣品濃度。測量濃度范圍可達1.0~10mg / ml 。



(b)瑞利干涉光系統
  系統由汞燈光源。干涉濾色片,準直鏡、聚焦鏡、照相鏡,柱棱鏡和屏(底片記錄)組成。它是利用光的干涉原理,產(chǎn)生明暗交替的干涉條紋和條紋位移。條紋垂直方向位移表示被測兩組分溶質(zhì)的濃度變化,條紋位移值代表溶液濃度,單位是條紋數。超離心分析通過(guò)干涉光檢測和微分處理,不但可以直接觀(guān)察離心沉降過(guò)程,而且可以直接測定分離樣品濃度、擴散系數。干涉光系統測量濃度的范圍可達到0.5~5mg / ml 。 驗電筆| 示波表| 電流表| 鉤表| 測試器| 電力計| 電力測量?jì)x| 光度計| 電壓計| 電流計|
(c)光吸收法系統
  光吸收法系統有兩種記錄方式:紫外攝影和光電掃描。紫外攝影底片的黑度用光密度計閱讀,放大倍數是光學(xué)系統放大倍數和光密度計放大倍數的乘積。這種方法可測量低濃度樣品,不能觀(guān)察離心沉降過(guò)程,光學(xué)系統對油污和塵埃很敏感。光電掃描在離心過(guò)程中直接記錄離心池中液體的光密度,直接得到樣品的絕對濃度,同時(shí)可直接觀(guān)察離心沉降過(guò)程。
發(fā)布人:2010/11/25 10:01:001501 發(fā)布時(shí)間:2010/11/25 10:01:00 此新聞已被瀏覽:1501次